超快極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

簡(jiǎn)要描述：UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設(shè)計(jì)用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專(zhuān)為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現(xiàn)貨庫(kù)存
無(wú)最小起訂量、無(wú)鍍膜批次費(fèi)用

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2024-11-08
訪問(wèn) 量：498

產(chǎn)品咨詢(xún)聯(lián)系我們

產(chǎn)品介紹

品牌	Edmund Optics	價(jià)格區(qū)間	面議
組件類(lèi)別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

設(shè)計(jì)用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖

具有38%峰值反射率的多層鍍膜

≤1? 表面粗糙度超拋光基底

另外提供專(zhuān)為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡

備有現(xiàn)貨庫(kù)存

無(wú)最小起訂量、無(wú)鍍膜批次費(fèi)用

通用規(guī)格

直徑 (mm):

25.40 ±0.13

基底:

Fused Silica (Corning 7980)

后表面:

Commercial Polish

涂層規(guī)格:

Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層:

EUV Multilayer (19nm)

入射角 (°):

有效孔徑 (%):

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):

邊緣:

Fine Ground

表面粗糙度（埃）:

Center Energy (eV):

65 ±2

Bandwidth (eV):

Supported Pulse Duration:

330 attoseconds

邊緣厚度 ET (mm):

6.35 ±0.20

型號(hào)

產(chǎn)品編碼	標(biāo)題
#16-765	25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror
#16-766	25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror
#16-767	25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

詳細(xì)資料

UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設(shè)計(jì)用于阿秒脈沖的轉(zhuǎn)向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時(shí)間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)生和整形阿秒脈沖的理想選擇。

原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長(zhǎng)的應(yīng)用空間中高效精確地控制波長(zhǎng)和光譜相位。亞秒科學(xué)突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學(xué)過(guò)程的機(jī)會(huì)，如：電子的運(yùn)動(dòng)。極紫外（EUV）反射鏡也被稱(chēng)為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來(lái)自多層膜堆疊的每個(gè)界面反射和散射 EUV 輻射的干涉?？商峁┲睆綖?5.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應(yīng)用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請(qǐng)與我們聯(lián)系。

技術(shù)數(shù)據(jù)